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2021年10月19日 Abstract. 本发明提供了一种纳米二氧化硅磨料及其制备方法和用途,所述制备方法包括以下步骤:硅溶胶经第一碱性物质调节pH值,与电解质溶液混合并加热得
了解更多2021年2月25日 纳米二氧化硅的制备. 纳米SiO2,呈三维网状结构,表面存在大量的不饱和残键和不同状态的羟基,这使得纳米二氧化硅表面能高,处于热力学非稳定状态,俗称为“超微细白炭黑”. 粒径小,比表面积大,表
了解更多二氧化硅生产工艺流程包括原料制备、气相法制备和溶胶凝胶法制备三个部分。 不同的制备方法适用于不同的生产需求,如气相法制备适用于大规模生产,溶胶凝胶法制备适用于小
了解更多2007年5月15日 一种纳米二氧化硅磨料抛光液的制备方法. 技术领域. 本发明涉及抛光液,尤其涉及一种微晶玻璃加工用的纳米二氧化硅磨料抛光液的生产方法。 背景技术.
了解更多2021年12月16日 一条完整的二氧化硅粉磨生产线包括颚式破碎机(如果物料的粒度在磨机中可以忽略)、斗式提升机、电磁给料机、磨机主机、分级机、除尘器、风机、粉末收集器
了解更多2021年12月11日 20mm该爆米花状硅溶胶的制备方法是分两步进行,首先通过球形颗粒表面的定向自组装方式制备不规则的起始晶种,接着是起始晶种的进一步生长,晶种的进一步生长使表面更加致密,凹凸部分更加牢固
了解更多摘要:一种纳米二氧化硅磨料抛光液的制备方法,涉及一种微晶玻璃加工用的纳米二氧化硅磨料 抛光液的生产方法。先将磨料II均匀溶解于去离子水中,然后在千级净化室的环境内,
了解更多纳米二氧化硅的制备方法. 纳米二氧化硅俗称“超微细白炭黑”,它的表面带有羟基,粒径小于100nm , 通常为2 0 ~6 0nm,化学纯度高,分散性好,比表面积大。 纳米二氧化硅对波
了解更多2020年11月13日 本发明的磨料颗粒表面含有大量的羟基,表面活性高,具有亲水性,表现出良好的分散性能;该复合磨料具有独特的结构和性能,相比纯硅溶胶而言,对硅片、氧化硅片、二氧化硅层、氮化硅层等介质层材料的抛光速率更快;相比氧化铝磨料而言,对介质层材
了解更多2024年1月13日 CN115849395耐磨擦型二氧化硅及其制备方法和应用技术领域 [0001]本发明涉及化工原料制备技术领域,具体涉及一种耐磨擦型二氧化硅及其制备方法和应用。. 背景技术 [0002]二氧化硅粉末物理化学性质稳定,在大规模生产上一般采用直接沉淀法制备,而采用
了解更多2021年12月11日 一种纳米二氧化硅磨料及其制备方法和用途与流程. 1.本发明属于研磨抛光材料技术领域,尤其涉及一种纳米二氧化硅磨料及其制备方法和用途。. 2.硅溶胶本质上是纳米二氧化硅磨料平均分散在水或化学溶剂中,因其优秀的稳定性、耐温性及悬浮性等被广泛应
了解更多本发明涉及一种非球形胶体二氧化硅制备方法,尤其涉及一种非球形胶体二氧化硅纳米颗粒制备方法,属于化学机械抛光工艺领域,尤其属超硬材抛光加工领域。背景技术胶体二氧化硅纳米颗粒广泛应用于印刷、造纸、照相、涂料、精密铸造、化学机械抛光等各行各业。目前,主流制备方法主要有 ...
了解更多1999年8月4日 本发明涉及特别适用于牙膏组合物的沉淀法二氧化硅磨料,它们的制备方法,它们在牙膏组合物中的用途,尤其是常见用途,以及含所述二氧化硅的牙膏组合物。基于牙膏组合物应具有高质量的清洁能力,在所述组合物中通常使用高质量的二氧化硅磨料,它们使所述组合物具有清洁能力;但是,由于 ...
了解更多其在制作磨料和抛光剂方面具有重要的应用价值,对于工业生产有着重要的推动作用。. 本文将探讨二氧化硅在磨料和抛光中的应用。. 一、二氧化硅作为磨料的应用. 1.1二氧化硅磨料的特点. 二氧化硅磨料具有高硬度,抗磨损、抗腐蚀、热稳定性强等特点。. 其 ...
了解更多1999年8月4日 本发明涉及特别适用于牙膏组合物的沉淀法二氧化硅磨料,它们的制备方法,它们在牙膏组合物中的用途,尤其是常见用途,以及含所述二氧化硅的牙膏组合物。基于牙膏组合物应具有高质量的清洁能力,在所述组合物中通常使用高质量的二氧化硅磨料,它们使所述组合物具有清洁能力;但是,由于 ...
了解更多2021年2月25日 下面为大家简单介绍一下气相法、沉淀法和水热合成法。. 1.气相法 气相法多以四氯化硅为原料,采用四氯化硅气体在氢氧气流高温下水解制得烟雾状的SiO2。. 激光激活化学气相沉积 (ILCVD)也是气相法中制备纳米SiO2的有效方法。. 该法比较容易制备出晶态
了解更多2021年11月24日 1.本发明涉及一种研磨抛光剂的制备方法,尤其涉及一种二氧化硅研磨抛光剂的制备方法,属于研磨抛光材料的生产制备技术领域。背景技术: 2.研磨抛光剂或通常所说的研磨抛光液,是不同于固结磨具、涂覆磨具的另一类“磨具”,是一种将磨料在分散剂中均匀、游离分布所形成的“磨具”,研磨 ...
了解更多2 天之前 二氧化硅( 化学式 : SiO 2 )是一种 酸性氧化物,对应 水化物 为 硅酸 ( H 2 SiO 3 )。 它自古便为人所知。二氧化硅在自然界中最常见的是 石英,以及在各种生物体中。在世界的许多地方,二氧化硅是 砂 的主要成分。 二氧化硅按制造方法分类,可 ...
了解更多高纯度低金属离子型抛光产品. 氧化硅抛光液是以高纯度 硅粉 为原料,经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品。. 广泛用于多种材料纳米级的高平坦化抛光。. 如:硅片、化合物晶体、精密光学器件、 宝石 等的抛光加工。. 中文名. 氧化硅抛光液 ...
了解更多2023年11月13日 化学机械抛光液配方分析. 基于全球经济的快速发展,IC技术(Integrated circuit, 即集成电路)已经渗透到国防建设和国民经济发展的各个领域,成为世界第一大产业。. IC 所用的材料主要是硅和砷化镓等,全球90%以上IC 都采用硅片。. 随着半导体工业的飞速
了解更多2007年5月15日 一种纳米二氧化硅磨料抛光液的制备方法,涉及一种微晶玻璃加工用的纳米二氧化硅磨料抛光液的生产方法。先将磨料II均匀溶解于去离子水中,然后在千级净化室的环境内,在真空负压的动力下,通过质量流量计将溶解的磨料II液体输入容器罐中,与容器罐内的所需重量的磨料I进行混合并充分搅拌 ...
了解更多2021年11月24日 1.本发明涉及一种研磨抛光剂的制备方法,尤其涉及一种二氧化硅研磨抛光剂的制备方法,属于研磨抛光材料的生产制备技术领域。背景技术: 2.研磨抛光剂或通常所说的研磨抛光液,是不同于固结磨具、涂覆磨具的另一类“磨具”,是一种将磨料在分散剂中均匀、游离分布所形成的“磨具”,研磨 ...
了解更多2022年12月28日 纳米二氧化硅生产工艺. 就工业生产而言,主要制备方法包括以四氯化硅等为原料的气相法、以硅酸钠和无机酸为原料的沉淀法、以硅酸酯为原料的溶胶-凝胶法及微乳液法。. 1.气相法. 气相法是目前发达国家用于工业化生产纳米SiO2的主要方法,利用该方法生
了解更多1998年7月22日 本发明是关于磨料颗粒、制备磨料颗粒的方法和使用该磨料颗粒的磨料产品(例如涂敷磨料、结合磨料和无纺磨料)。磨料颗粒中包含α氧化铝、二氧化硅、氧化铁以及可选性的其它金属氧化物。相关技术的说明长期以来一直将磨料颗粒用于磨料产品中。这些磨料产品包括结合磨料(例如砂轮)、涂敷磨料 ...
了解更多2021年11月17日 1.本发明涉及一种基于自组装纳米二氧化硅磨料的抛光液,尤其涉及一种磨料的自组装方法,属于精细化工技术领域。背景技术: 2.随着led行业的发展,芯片衬底逐步向大尺寸、高品质方向发展。 其中,蓝宝石晶片是当前led行业常见的衬底片,蓝宝石为氧化铝单晶材料的通用术语,具有极好的化学 ...
了解更多2020年6月10日 碳化硅是用天然硅石、碳、木屑、工业盐作基本合成原料,在电阻炉中加热反应合成。. 其中加入木屑是为了使块状混合物在高温下形成多孔性,便于反应产生的大量气体及挥发物从中排除,避免发生爆炸,因为合成IT碳化硅,将会生产约1.4t的一氧化碳 (CO ...
了解更多2022年6月2日 5.中国专利申请cn113773806a公开一种纳米二氧化硅磨料及其制备方法和用途,以硅酸钠作为硅源合成的球形纳米二氧化硅磨料,经第一碱性物质调节ph值,与电解质溶液混合并加热得到母液;活性硅酸溶液持续加入至所述母液中,所述活性硅酸溶液和母液的
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